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紫外掩膜曝光系統
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我們在Dilase 直接激光寫入光刻技術方面擁有豐富的經驗，因此推出了用于固化紫外光感光材料的 UV-KUB 系統。 UV-KUB 2 是一種基于 UV LED 的曝光和掩膜系統，具有 365nm 的可用光源。 這是一款緊湊型的桌面系統，能夠曝光最大直徑為 4“ 或 6“ 的晶圓。
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