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桌面微型紫外光刻機，專為微米級圖案制作而設計，旨在保障圖形轉移精度，其緊湊的體積將移形換影置于桌面之上，為操作提供了便利與精準。

光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。

光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。

MYCRO*荷蘭光刻機（掩膜曝光光刻機Mask Aligner ），是的光刻系統(tǒng)，為半導體制造和科研領域提供品質優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。

MYCRO*荷蘭光刻機（光刻機Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導體制造和科研領域提供品質優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。

MYCRO*荷蘭光刻機（光刻機Mask MSMA），是的光刻系統(tǒng)，為半導體制造和科研領域提供品質優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。客戶如美國航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦大學等等。