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等離子清洗機常用的工藝氣體有氧氣、氬氣、氮氣、壓縮空氣、二氧化碳、氫氣、四氟化碳等。它是將氣體電離產生等離子體對工件進行表面處理,無論是進行清洗還是表面活化,為達到最佳的處理效果會選用不同的工藝氣體,那么等離子清洗機的常用工藝氣體又該如何選擇呢?1.氧氣氧氣是等離子清洗常用的活性氣體,屬于物理+化學的處理方式,電離后產生的離子體能夠對表面進行物理轟擊,形成粗糙表面。同時高活性的氧離子能夠與被斷鍵后的分子鏈發生化學反應形成活性基團的親水表面,達到表面活化的目的;被斷鍵后的有機污...

空·穴·傳·輸·層.201Spiro-OMeTADSpiro-OMeTAD是PSC中常用的空穴傳輸層之一。它定期生產高效PSC，并用于當前的世界器件8。Spiro-OMeTAD可以進行純溶液處理，沒有退火步驟，這意味著它可以在低溫下輕松處理。事實上，Spiro-OMeTADHTL已被證明與大規模鈣鈦礦生產兼容，DiGiacomo等人創建了超過10%PCE的15cm2的器件12，Kim等人的研究表明，采用卷到卷工藝創建的Spiro-OMeTAD器件的PCE高達13.8%13。然...

太陽光模擬器01太陽輻射的基礎知識太陽的表面溫度約為5800K，這意味著太陽輻射的電磁頻譜與5800K的黑體相似，但它包含了精細的結構，這是由于太陽外圍的冷氣體吸收(Fraunhofer線)。當太陽與地球相距1個天文單位(地球-太陽平均距離為149,597,890km)時，地球外層大氣的太陽輻照度為1360Wm-2。這個值稱為太陽常數，是整個電磁光譜的總體輻照度。圖1顯示了地球大氣層外太陽輻射的電磁光譜，所示的范圍為200—2500nm，包括到達地球的總輻照度的96.3%，其...

美國CARVER熱壓機是一種廣泛應用于材料科學、生產制造業以及研究領域的設備，主要用于材料復合、層壓、粘合和熱壓成型等工藝。CARVER熱壓機以其精確的溫度控制、均勻的壓力分布和操作簡便性著稱，適用于從實驗室小樣品制備到批量生產的多種應用。通過加熱板對材料施加熱量和壓力，從而實現材料的復合、成型或粘合。設備通常配備有溫度控制系統，能夠精確調節加熱板的溫度，同時通過液壓或機械方式施加壓力。在設定的時間和溫度下，材料在壓力作用下完成所需的工藝過程。美國CARVER熱壓機的構造：1...

Nanonex納米壓印光刻機是一種利用納米壓印技術來制造微小圖案和結構的革命性設備。這種技術因其高效率、低成本以及能夠生產出傳統光刻技術難以實現的極小尺寸結構而受到關注。使用具有納米級圖案的硬質模板（通常由硅或鎳制成），將其直接壓入涂有可塑性聚合物的基片上。這個過程在加熱或紫外線照射的條件下進行，使聚合物軟化并填充模板中的空腔。隨后冷卻或停止照射，聚合物硬化，模板從基片上脫模，留下與模板相反的圖案。Nanonex納米壓印光刻機的主要組件：1.模板或印模：這是一塊經過精密加工、...

美國Uvitron紫外固化箱憑借其高效固化、節能環保、安全可靠、智能控制等優點，在各個行業中得到了廣泛應用，如印刷、包裝、電子、醫療、汽車等。美國Uvitron紫外固化箱的特點：1.高效固化：采用高強度紫外光源，能在短時間內實現快速固化，提高生產效率。2.節能環保：紫外固化過程中無需使用溶劑，減少了有害氣體的排放，符合環保要求。3.安全可靠：內部采用安全保護措施，確保操作人員在使用過程中的安全。4.智能控制：配備智能控制系統，可根據實際需求調整紫外光源的強度和固化時間，實現精...

Nanonex納米壓印光刻機主要由壓印模板、基底、壓印系統和分離系統組成。壓印模板是具有納米級圖案的硬質材料，這些圖案可以通過電子束光刻或其他納米加工技術制備。基底是待圖案轉移的材料，通常是聚合物或者其它有機材料。壓印系統通過施加一定的壓力和溫度，使模板上的圖案被精確地復制到基底上。分離系統則負責在圖案轉移完成后，將模板從基底上安全且完整地分離。工作原理相對簡單。先將涂有一層薄薄的聚合物的基底放入設備中。然后，將具有所需納米圖案的模板對準基底，并施加一定的壓力和溫度，使得聚合...